Spin Processor旋涂(tu)勻膠機產品特點

v 采用閉環控制伺服電機，數(shu)字式增速信號反饋，速勻準確(que)，壽命長，保證勻膠的均一性。

v 5寸全彩(cai)觸摸屏，智能程(cheng)(cheng)(cheng)序(xu)化可(ke)(ke)編程(cheng)(cheng)(cheng)操控顯(xian)示，標(biao)配10個(ge)(ge)勻膠梯(ti)度階段（速度和時間梯(ti)度設(she)置），可(ke)(ke)選配10個(ge)(ge)可(ke)(ke)編程(cheng)(cheng)(cheng)程(cheng)(cheng)(cheng)序(xu)，每個(ge)(ge)程(cheng)(cheng)(cheng)序(xu)下(xia)可(ke)(ke)設(she)置10個(ge)(ge)勻膠梯(ti)度階段，z多100個階段。

v 內置水平校準裝置，大限度(du)的保證旋涂均勻，可對(dui)大小不同規格的基片進行旋涂。

v 多重安(an)全保護:

» 電(dian)磁安全(quan)開(kai)關，蓋子打開(kai)卡盤停止，保(bao)證安全(quan)；

» 蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；

» 雙重安(an)全上(shang)蓋，聚四(si)氟嵌鑲鋼化(hua)玻璃，避免單(dan)一玻璃或者亞克力上(shang)蓋飛片傷人(ren)，大限度(du)保證實驗人(ren)員(yuan)安(an)全。

v 樣(yang)(yang)品(pin)托盤(pan)卡口和樣(yang)(yang)品(pin)托盤(pan)之(zhi)間(jian)三(san)重密封安全保護，有效降低電(dian)機進膠的風險。

v 一機兩(liang)用，根據不同樣品可選真(zhen)空吸盤(pan)和(he)非真(zhen)空卡盤(pan)兩(liang)種旋涂方式。

v 符合(he)人體功能學(xue)的水平取(qu)放(fang)樣(yang)品旋涂托盤(pan)設計，取(qu)放(fang)樣(yang)品更方便。

v 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔(qiang)體采用(yong)PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

v 上下(xia)雙腔(qiang)體設計，較大的上腔(qiang)體便(bian)于擦(ca)拭去除(chu)膠液(ye)，錐形下(xia)腔(qiang)體結構設計便(bian)于收集(ji)膠液(ye)，并帶廢膠收集(ji)裝置

v 可選氮氣吹干、氮氣保護，自動滴膠或簡(jian)易滴膠裝(zhuang)置，提(ti)供更(geng)多的操(cao)作便利性。

v 適用硅片、玻璃、石英、金屬(shu)、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

　　勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉時所產生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機有很多稱謂，勻膠臺，旋轉涂膜機，旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等，它的英文是Spin Processor：旋轉涂膜的意思。

　　勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的階段，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發）了。所以準確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內揮發掉了。在已經光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經由前面工序留下來的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產生扭力（twisting force）,這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

Spin Processor旋涂勻膠機技術(shu)參數