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CIF-Spin Processor轉速(su)穩(wen)定(ding)、啟動迅(xun)速(su)，旋涂均勻，操作簡單，結構(gou)緊湊實(shi)用，為(wei)實(shi)驗室提供了理(li)想(xiang)的解決方案。廣泛(fan)應用于微電子、半(ban)導體、新(xin)能源、化(hua)工(gong)材料、生物(wu)材料、光(guang)學，硅(gui)片(pian)(pian)、載玻(bo)片(pian)(pian)，晶片(pian)(pian)，基片(pian)(pian)，ITO 導電玻(bo)璃(li)等工(gong)藝(yi)制版(ban)表面涂覆等。

Spin Coater勻膠(jiao)(jiao)機進行滴膠(jiao)(jiao)就是簡單地(di)把光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)滴注到(dao)靜止的(de)(de)(de)(de)基(ji)片(pian)(pian)(pian)表面的(de)(de)(de)(de)中心(xin)，滴膠(jiao)(jiao)量為1-10ml不等(deng)。滴膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)多少(shao)應(ying)根據(ju)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)粘度和基(ji)片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)大(da)小來確定(ding)。粘度比(bi)較高和/或(huo)基(ji)片(pian)(pian)(pian)比(bi)較大(da)，往往需(xu)(xu)要滴較多的(de)(de)(de)(de)膠(jiao)(jiao)，以保證在(zai)高速旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)階段整(zheng)個基(ji)片(pian)(pian)(pian)上(shang)都涂(tu)到(dao)膠(jiao)(jiao)。動態(tai)滴膠(jiao)(jiao)方(fang)式是在(zai)基(ji)片(pian)(pian)(pian)低速（通常在(zai)500轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)/分左右(you)）旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)的(de)(de)(de)(de)同時進行滴膠(jiao)(jiao)，“動態(tai)”的(de)(de)(de)(de)作用(yong)是讓光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)容(rong)易在(zai)基(ji)片(pian)(pian)(pian)上(shang)鋪展開，減少(shao)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)浪費，采用(yong)動態(tai)滴膠(jiao)(jiao)不需(xu)(xu)要很(hen)多光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)就能潤濕(shi)（鋪展覆(fu)蓋）整(zheng)個基(ji)片(pian)(pian)(pian)表面。尤其是當光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)或(huo)基(ji)片(pian)(pian)(pian)本身潤濕(shi)性不好的(de)(de)(de)(de)情(qing)況下，動態(tai)滴膠(jiao)(jiao)尤其適用(yong)，不會產生針孔。

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CIF勻膠機轉(zhuan)速(su)穩定(ding)、啟(qi)動迅速(su)，旋涂均(jun)勻，操作簡(jian)單(dan)，結構緊湊實用(yong)，為(wei)實驗(yan)室提供了理(li)想的解(jie)決方案(an)。廣泛應用(yong)于微電子、半(ban)導體、新能源、化工(gong)材料、生物材料、光學，硅片(pian)(pian)、載玻片(pian)(pian)，晶片(pian)(pian)，基片(pian)(pian)，ITO 導電玻璃等工(gong)藝制版(ban)表面涂覆等。