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CIF-Spin Processor轉(zhuan)速穩定、啟(qi)動迅(xun)速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供(gong)了理想(xiang)的解決方案。廣泛應(ying)用于微電子(zi)、半導體、新能源、化工(gong)材(cai)料、生物材(cai)料、光學，硅(gui)片(pian)、載玻(bo)片(pian)，晶片(pian)，基片(pian)，ITO 導電玻(bo)璃等工(gong)藝制版表(biao)面涂覆(fu)等。

CIF 掃(sao)描電鏡（SEM）等離子清(qing)洗(xi)機采用遠程等離子清(qing)洗(xi)源(yuan) 設計，清(qing)洗(xi)快速、高(gao)效、低轟擊損傷(shang)，主要用于(yu) SEM 或 FIB 等腔 體內碳(tan)氫化(hua)合(he)物的清(qing)洗(xi)。

烤(kao)膠(jiao)機(ji)是(shi)一種控(kong)溫加熱 設備。主要用于(yu)半導體硅(gui)片， 載(zai)玻片，晶(jing)片，基片，ITO 導 電玻璃等(deng)工藝(yi)的(de)制版的(de)表面涂 覆后薄膜(mo)烘干、固(gu)化。

Spin Coater勻膠(jiao)(jiao)(jiao)機進行(xing)滴膠(jiao)(jiao)(jiao)就是(shi)(shi)簡單(dan)地把光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)滴注(zhu)到(dao)靜止(zhi)的(de)基(ji)(ji)片(pian)表(biao)面的(de)中(zhong)心，滴膠(jiao)(jiao)(jiao)量為1-10ml不(bu)等。滴膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)多(duo)少應根據光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)粘度和基(ji)(ji)片(pian)的(de)大小來確定。粘度比(bi)較(jiao)高(gao)和/或基(ji)(ji)片(pian)比(bi)較(jiao)大，往(wang)往(wang)需(xu)要滴較(jiao)多(duo)的(de)膠(jiao)(jiao)(jiao)，以保證(zheng)在(zai)高(gao)速旋轉階段整(zheng)個基(ji)(ji)片(pian)上(shang)都涂(tu)到(dao)膠(jiao)(jiao)(jiao)。動(dong)(dong)態(tai)滴膠(jiao)(jiao)(jiao)方式是(shi)(shi)在(zai)基(ji)(ji)片(pian)低速（通(tong)常在(zai)500轉/分左右）旋轉的(de)同時進行(xing)滴膠(jiao)(jiao)(jiao)，“動(dong)(dong)態(tai)”的(de)作用(yong)是(shi)(shi)讓光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)容易(yi)在(zai)基(ji)(ji)片(pian)上(shang)鋪展開，減(jian)少光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)浪費，采(cai)用(yong)動(dong)(dong)態(tai)滴膠(jiao)(jiao)(jiao)不(bu)需(xu)要很多(duo)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)就能潤濕（鋪展覆蓋）整(zheng)個基(ji)(ji)片(pian)表(biao)面。尤其是(shi)(shi)當(dang)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)或基(ji)(ji)片(pian)本身潤濕性不(bu)好的(de)情況下，動(dong)(dong)態(tai)滴膠(jiao)(jiao)(jiao)尤其適用(yong)，不(bu)會產生針孔。

CIF 推(tui)出的旋涂機系列產品轉(zhuan)速穩定、啟動迅速，旋涂均勻(yun)，操作簡單，結(jie)構緊湊(cou)實(shi)用，為(wei)實(shi)驗室提供(gong)了理想的解決方案。

紫外臭氧清洗(xi)機(ji)(ji)（UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面(mian)清洗(xi)設備(bei)，能快速去除大多(duo)數無機(ji)(ji)基材（比(bi)如石英(ying)，硅片，金，鎳，鋁(lv)，砷化(hua)鎵，氧化(hua)鋁(lv)等）上的有機(ji)(ji)污染物。

CIF專為處理(li)粉體如粉狀、顆粒狀材(cai)料樣品(pin)而(er)設計的(de)粉體專用等(deng)離(li)子清洗(xi)(xi)機，可以(yi)高效(xiao)率地處理(li)微細(xi)的(de)甚至分(fen)子級(ji)別的(de)超細(xi)粉體材(cai)料，改變傳統真空(kong)等(deng)離(li)子清洗(xi)(xi)機無法處理(li)粉體樣品(pin)的(de)問題。

CIF 推出的(de)新一代科研型等(deng)離子清洗設備，合理的(de)結構設計，優(you)化(hua)的(de)腔(qiang)體尺寸，使得處理樣品更大(da)，適用(yong)范圍更廣。 產(chan)品性(xing)能穩定，操作簡單方便，易(yi)維護。