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CIF 推(tui)出的新一(yi)代科研型等離子清洗設(she)備，合(he)理的結構設(she)計，優化(hua)的腔體尺寸(cun)，使得處理樣(yang)品更大，適用范圍更廣。 產品性(xing)能穩定，操(cao)作簡單方(fang)便，易(yi)維護。

CIF 推(tui)出的(de)中試(shi)生產(chan)型(xing)等離子清(qing)洗(xi)機是為研發(fa)型(xing)客戶(hu)和工(gong)業級客 戶(hu)而設(she)計的(de)等離子體表面處(chu)理設(she)備。配置(zhi)豐富， 且真空腔體里可分(fen)層， 適合大多(duo)數生產(chan)場(chang)景清(qing)洗(xi)，活化、刻(ke)蝕(shi)等應(ying)用。設(she)備可在嚴苛環(huan)境(jing)下 穩(wen)定運(yun)行，產(chan)品(pin)性(xing)(xing)能穩(wen)定，樣品(pin)處(chu)理重復性(xing)(xing)、一(yi)致性(xing)(xing)好。

CIF推(tui)出全(quan)新(xin)一代 CPC-G系列(lie)實驗室型等離(li)子(zi)體清洗(xi)設(she)備(bei)(bei)， 改(gai)變(bian)傳統等離(li)子(zi)體清洗(xi)設(she)備(bei)(bei)設(she)計(ji)理(li)(li)念(nian)。具有(you)(you)較大(da)(da)的腔(qiang)體尺寸和(he)(he)有(you)(you)效樣 品處(chu)理(li)(li)面(mian)積， 使用(yong)成(cheng)本低， 性價(jia)比高， 處(chu)理(li)(li)快速(su)高效， 特(te)別適合于大(da)(da)學， 科研院所(suo)和(he)(he)光電企業實驗室小(xiao)批量中試(shi)生產(chan)。

CIF 推(tui)出的(de)(de)(de)新(xin)一代科研型等離子清洗設(she)(she)備，合(he)理的(de)(de)(de)結(jie)構設(she)(she)計(ji)，優化的(de)(de)(de)腔體尺寸，使得處理樣品(pin)更大，適用范圍更廣(guang)。 產(chan)品(pin)性能(neng)穩定(ding)，操作簡單方(fang)便，易維(wei)護(hu)。

CIF等離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)汽化(hua)接枝儀(yi)（CPV-G）為等離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)表面(mian)處理(li)儀(yi)的(de)配套設備，主要用于將液態原料汽化(hua)并以一(yi)定的(de)流量輸入等離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)表面(mian)處理(li)儀(yi)的(de)反應腔內，以進(jin)行材料表面(mian)的(de)接枝和沉積，適(shi)用于各種等離(li)(li)子(zi)(zi)處理(li)設備。